东富龙HEK293细胞培养基家族在不同产物生产应用参考工艺

2023-03-09

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1. 东富龙HEK293培养基家族

序号	产品	应用	可供应形式	产品描述
1	HEK293 CDM15	蛋白表达、AAV、AdV	干粉/液体	化学成分限定,适应于HEK293,HEK293F,293T等悬浮培养及蛋白、AAV、AdV转染表达
2	HEK293 CDM26	蛋白表达、AAV、AdV、LV	干粉/液体	化学成分限定,适应于HEK293,HEK293F,293T等悬浮培养及蛋白、AAV、AdV和LV转染表达
3	HEK293 CDM30	蛋白表达、AAV、AdV、LV	干粉/液体	化学成分限定,适应于HEK293,HEK293F,293T等悬浮培养及蛋白、AAV、AdV和LV转染表达
4	HEK293 SFM28	蛋白表达、AAV、AdV、LV	液体	无血清，适应于293T等细胞贴壁维持及转染后产物表达
5	补料A（Tobitec FA）	通用型（HEK293、CHO）	干粉/液体	无血清、无蛋白及蛋白水解物、化学成分限定
6	补料B（Tobitec FB）	通用型（HEK293、CHO）	干粉/液体	无血清、无蛋白及蛋白水解物、化学成分限定

2. 东富龙HEK293应用于不同产物瞬转参考工艺

2.1 东富龙HEK293蛋白生产瞬转参考工艺

基础培养基	说明	补料	说明
HEK293 CDM15	含谷氨酰胺	补料A（Tobitec FA）	不含谷氨酰胺
HEK293 CDM26		补料B（Tobitec FB）	不含谷氨酰胺及葡萄糖
HEK293 CDM30
蛋白类瞬转补料工艺		质粒瞬转后24和96 h左右时，分别补加7%的FA，0.7%的FB，4mM 谷氨酰胺，葡萄糖控制到5g/L(FA中的糖除外）
PEI等化学试剂转染工艺		1）宿主细胞生长密度超过10 e6 cells/mL 的细胞：转染时调整细胞 VCD：4.5 E6 cells/mL；DNA：1.8mg/L; PEI:DNA=3 2）宿主细胞生长密度低于10 e6 cells/mL 的细胞：转染时调整细胞VCD：2 E6 cells/mL；DNA：1mg/L; PEI:DNA=3
其他参数建议		初始培养温度36.5℃，不降温，pH:7.1±0.2，DO：40%。（摇床中建议转速120rpm，振幅50mm, 5-8%CO2）

2.2东富龙HEK293病毒生产瞬转参考工艺--悬浮体系

以AAV病毒1mL转染体系为例：

基础培养基

DNA用量

FectoVIR-AAV 体积

用于复合物制备的培养基量

补料

HEK293 CDM26

1.5ug

(1.5~2.0ug)

2.25uL

(1.5~4.0ul)

0.1mL

Tobitec FA&Tobitec FB

瞬转补料工艺

病毒瞬转后24和96 h左右时，分别补加4%的FA，0.4%的FB，4mM 谷氨酰胺，葡萄糖控制到5g/L(FA中的糖除外）

载体比例建议如下（以1.5ug/mL DNA为例）

2.3.东富龙HEK293病毒生产瞬转参考工艺--贴壁体系

基础培养基

类别

工艺

HEK293 SFM28

慢病毒瞬转参考工艺

1）按原工艺用培养基（一般是基础培养基+血清）进行HEK293T贴壁培养，静置培养至细胞生长融合度达80%；

2）使用原培养基或HEK293 SFM28执行病毒转染操作；

3） 4~6h后去除含血清培养基并清洗，加入HEK293 SFM28继续培养，转染48~72小时后执行収毒作业。

其他参数建议

初始培养温度37℃，转染后降温至32℃

3. 东富龙HEK293稳转参考工艺

推荐工艺如下：

基础培养基	说明	补料	说明
HEK293 CDM26/30	已含有谷氨酰胺	补料A（Tobitec FA）	不含谷氨酰胺
		补料B（Tobitec FB）	不含谷氨酰胺及葡萄糖
补料工艺	当细胞密度≥4 e6cells/mL开始补料，建议每48hFA补加5%，FB0.5%，谷氨酰胺4mM（GS系统无需添加）, 葡萄糖控制到6-8g/L
其他参数建议	初始培养温度36.5℃，day5降温至33℃，pH:7.1±0.2，DO：40%。（摇床中建议转速120rpm，振幅50mm, 5-8%CO2）
备注	可根据工艺需求，配液时直接将80mM的Gln加入FA中